薄膜形成工程

成膜工程とも呼ばれる。

半導体デバイスに特定の機能をもたせるため

絶縁膜

デバイス間や配線間を分離する

導体膜

配線として利用

成膜方法

シリコン酸化膜の形成に用いられる。

シリコン酸化膜は絶縁性に優れ、絶縁領域を作る際に用いられる。