Remesh and Bake Textures
(準備中)
hr.icon
メモ
不要な面の削除 Dissolve Vertices
ポリゴン削減
Decimate Modifier
Remesh Modifier
ローポリのマテリアルとテクスチャ画像作成
2048x2048(解像度が高いほどノイズは小さくなるが処理が重くなる)
UVマップ構築
Unwrapを使用
SmartUVProjectは機械構造に適しており人体には不向き
レンダリング設定
Max Samples: 1
Light Path:等: 3
Bake
Diffuse
Extrusion: 0.01〜0.1
その他設定
ローポリとハイポリを複数選択して、ローポリをアクティブにする
参考)