フォトリソグラフィ
フォトリソグラフィは、感光性物質を塗布した物質の表面をパターン状に露光することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術です。
フォトリソグラフィは、写真現像技術を応用した微細パターン作成技術です。
フォトリソグラフィは、電子部品、半導体、プリント基板、液晶・プラズマディスプレイなどの製造に用いられています。
フォトリソグラフィのメリットは、微細なパターンを大量に複製できることです。
フォトリソグラフィの欠点は、1品だけの試作においてもマスクが必要となり、結果として費用や時間が無駄になることです。
マスクレス露光装置は、マスクを用いることなく微細なパターニングを可能とします。